Polimask 2000 BETA Semimaschera a doppio filtro per protezione respiratoria
Polimask 2000 BETA Semimaschera a doppio filtro per protezione respiratoria
La Polimask 2000 BETA di DPI Sèkur è una semimaschera universale in EPDM, conforme alla norma EN 140. Progettata con due raccordi filettati per l’utilizzo di filtri Sèkur Serie 200, garantisce un’elevata protezione respiratoria in spazi confinati e ambienti a rischio.
Descrizione dettagliata:
Ideale per operatori industriali e professionisti del settore, la Polimask 2000 BETA offre un’ottima aderenza al viso, grazie al materiale EPDM che assicura comfort e resistenza anche in condizioni di impiego prolungate. La presenza di due raccordi filettati permette l’installazione simultanea di una coppia di filtri Sèkur Serie 200 (antipolvere, antigas o combinati), aumentando il livello di protezione contro differenti tipi di contaminanti, come polveri, vapori e gas. Conforme alla norma EN 140, la semimaschera Polimask 2000 BETA è studiata per le esigenze di chi opera in spazi confinati, assicurando un dispositivo di protezione individuale affidabile e versatile.
Caratteristiche principali:
- Doppio raccordo filettato: Consente l’uso di due filtri simultaneamente, garantendo una protezione completa.
- Materiale EPDM: Fornisce ottima resistenza e comfort, adattandosi a diverse morfologie facciali.
- Taglia universale: Studiata per adattarsi alla maggior parte degli utilizzatori, semplificando la gestione del magazzino DPI.
- Conforme a EN 140: Rispetta gli standard europei di sicurezza per le semimaschere.
- Perfetta per spazi confinati: Offre elevati livelli di protezione anche in ambienti a rischio, riducendo l’esposizione a contaminanti.
Perché scegliere Polimask 2000 BETA?
- Garantisce una protezione respiratoria efficace in diverse tipologie di applicazioni industriali.
- La costruzione in EPDM assicura una lunga durata del dispositivo e un’ottima tollerabilità cutanea.
- Combinata ai filtri Sèkur Serie 200, fornisce una protezione completa contro molteplici inquinanti.

